SELF-MIX ANTIOXIDANTE T-koncentrat 3/20, 30 antyoksydacyjny
T-koncentrat 3/20,30 przeznaczony jest do pielęgnacji skóry młodej 20-30+ z problemem skóry suchej i przesuszonej. T-koncentrat 3/20,30 zawiera składnik antyoksydacyjny Seboxyl, który jest ukierunkowany na ochronę przed oksydacją składowych sebum oraz składowych lipidowych naturalnej bariery skóry. W składzie T-koncentratu znajdują się także dwa składniki antyoksydacyjno-regenerujące, odpowiadające za naprawę zaistniałych uszkodzeń bariery naskórkowej: Celloxyl - ukierunkowany na ochronę przed działaniem UV struktury połączenia skórno-naskórkowego DEJ, kolagenu i komórek macierzystych oraz Resistress – stymulator regeneracji komórek skóry uszkodzonych wolnymi rodnikami oddziaływującymi zarówno zewnętrznie, jak i wewnętrznie. Jako składnik nawilżający w T-koncentracie 3/20,30 użyto kompleks odtwarzający NMF – naturalny czynnik nawilżający występujący w barierze skórnej.
SKŁADNIKI AKTYWNE
SEBOXYL – ukierunkowany jest na ochronę przed oksydacją składowych sebum oraz składowych lipidowych naturalnej bariery skóry; ma działanie przeciwzapalne i łagodzące podrażnienia. To surowiec przeznaczony do delikatnej pielęgnacji skóry mieszanej, borykającej się z trądzikiem. Ze względu na właściwości przeciwzapalne, zalecany również do cery z trądzikiem różowatym. Stanowi połączenie soków z liści czarnej porzeczki (Ribes nigrum) i krzewów malin (Rubus idaeus), stabilizowany gliceryną. Rośliny te zostały wybrane ze względu na bogactwo polifenoli i hydrolizowalnych tanin (np. kwas elagowy).
CELLOXYL – silny antyoksydant otrzymywany z liści drzewa tapii (Uapaca bojeri), stosowany dla ochrony połączenia skórno-naskórkowego oraz epidermalnych komórek macierzystych. Chroni przed stresem oksydacyjnym mitochondria i lipidy. Ma właściwości antyoksydacyjno-regenerujące, odpowiadające za naprawę zaistniałych uszkodzeń bariery naskórkowej. Zapewnia ochronę przed promieniowaniem UV dla struktur połączenia skórno-naskórkowego DEJ, kolagenu i komórek macierzystych.
RESISTRESS - otrzymywany z kwiatów perełkowca japońskiego (Saphora japonica). Stres oksydacyjny osłabia biologiczne mechanizmy obronne i powoduje uszkodzenia naskórka i skóry właściwej. Resistress pomaga zregenerować i przywrócić homeostazę skórze narażonej na działanie stresu oksydacyjnego. Składnik pobudza endogenne antyoksydacyjne systemy obronne skóry jak również przyspiesza procesy odnowy.
KOMPLEKS odtwarzający NMF – naturalny czynnik nawilżający występujący w barierze skórnej.